【名称】光谱研究金属及合金之缓蚀剂的作用及其择优化表面技术

【申请（专利）号】CN201210091219.8

【公开（公告）号】CN102621093A

【申请人】上海大学

【发明人】方建慧,霍胜娟,祝卿,褚晨盛

【申请日期】2012-3-31

【公开（公告）日期】2012-8-1

【专利说明】一种以光谱学与金属的腐蚀相结合手段，研究表面缓蚀剂，用于优化保护金属及合金的方法，其特征在于以半圆形硅柱为研究载体，其表面化学镀金，再将该柱体安装于专一设计的光谱电解池中，并固定光谱电解池在全反射的光路中，电沉积研究对象的金属，利用流动换液装置，将缓蚀剂溶液包括无机及有机或有机高分子类溶液注入光谱池中并静置几小时，使电池表面自组装上缓蚀分子;运用原位表面增强红外光谱技术对上述样品进行电位调制分析，获取有效参数，从而强化对缓蚀剂选择。

【摘要】光谱研究金属及合金之缓蚀剂的作用及其择优化表面技术。本发明属于光谱学与金属腐蚀与防护技术相结合的技术领域。固定光谱电解池（如图）由以半圆形硅柱2作载体，表面化学镀金，电沉积被研究对象的金属为电极1(铜线8相接)，对电极纯铂电极3，及参比饱和甘汞电极4，进出N2气口5，6构成，并置全反射的光路中，以溶液进出口7,将缓蚀剂于池中换液，并静置数小时，使电极表面自组装上缓蚀剂分子。用原位表面增强红外光谱，对上样品进行电位调制分析。与以往技术相比，其通过在红外窗口半圆形硅柱上，镀金属纳米薄膜为电极，又利用原位表面增强红外技术，研究不同缓蚀剂分子在金属表面随电位变化的吸附构型，了解缓蚀剂作用过程，使此技术在金属或合金防蚀与保护上有更有效的广泛应用。