| 分析测试报告 |
不同频率的ta-C纳米压痕图 |
nanoindentatio，frequency |
新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题2(1) |
2024-02-22 |
| 分析测试报告 |
偏压频率硬度图 |
Bias frequency hardness chart |
新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题2(1) |
2024-02-22 |
| 分析测试报告 |
90℃不同C靶功率沉积ta-C 4h |
90℃ at different C-target powers |
新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题2(1) |
2024-02-22 |
| 分析测试报告 |
频率1500Hz的ta-C划痕数据图数据图-C沉积速率图 |
nanoscratch，1500Hz |
新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题2(1) |
2024-02-22 |
| 分析测试报告 |
不同偏压的ta-C纳米压痕图 |
nanoindentatio，bias |
新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题2(1) |
2024-02-22 |
| 分析测试报告 |
频率4000Hz的ta-C划痕数据图数据图-C沉积速率图 |
nanoscratch，4000Hz |
新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题2(1) |
2024-02-22 |
| 分析测试报告 |
不同频率的ta-C的摩擦系数图 |
Friction coefficient，frequency |
新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题2(1) |
2024-02-22 |
| 分析测试报告 |
偏压-50V的ta-C划痕数据图数据图-C沉积速率图 |
nanoscratch，-50V |
新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题2(1) |
2024-02-22 |
| 分析测试报告 |
不同偏压制备ta-C的交流阻抗图 |
Ac impedance,bias |
新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题2(1) |
2024-02-22 |
| 分析测试报告 |
80℃不同C靶功率沉积ta-C-4h |
ta-C-4h was deposited at 80℃ at different C-target powers |
新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题2(1) |
2024-02-22 |
