国家材料腐蚀与防护科学数据中心
National Materials Corrosion and Protection Data Center
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分析测试报告 不同硅含量的ta-C薄膜拉曼光谱及高斯拟合 Raman,different Si content 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题2(2) 2024-02-22
分析测试报告 不同钛含量的ta-C薄膜拉曼光谱及高斯拟合 Raman,different Ti content 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题2(2) 2024-02-22
分析测试报告 15sccm 流量C2H2ta-C薄膜的C1s分峰拟合图 XPS,15 sccmC2H2,C1s 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题2(2) 2024-02-22
分析测试报告 3%含量Si的ta-C薄膜的C1s分峰拟合图 XPS,3% Si,C1s 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题2(2) 2024-02-22
分析测试报告 2%含量Ti的ta-C薄膜的C1s分峰拟合图 XPS,2% Ti,C1s 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题2(2) 2024-02-22
分析测试报告 0%含量Ti的ta-C薄膜的C1s分峰拟合图 XPS,0% Ti,C1s 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题2(2) 2024-02-22
分析测试报告 45sccm 流量C2H2ta-C薄膜的C1s分峰拟合图 XPS,45 sccmC2H2,C1s 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题2(2) 2024-02-22
分析测试报告 不同C2H2流量的ta-C薄膜拉曼光谱及高斯拟合 Raman,different C2H2 flows 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题2(2) 2024-02-22
分析测试报告 0%含量Si的ta-C薄膜的C1s分峰拟合图 XPS,0% Si,C1s 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题2(2) 2024-02-22
分析测试报告 不同C2H2流量的ta-C纳米压痕图 ta-C nanoindentation of different C2H2 flow rates 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题2(2) 2024-02-22