国家材料腐蚀与防护科学数据中心
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名称 : 不同偏压的ta-C沉积速率图
英文名称 : Deposition rate，bias
材料 : 1649
委托单位 : 科学指南针
实验单位 : 科学指南针
实验方法 : 磁控溅射镀膜试验
实验设备 : 激光测厚仪
实验条件 : 室温
说明 :

不同偏压的ta-C沉积速率图

英文说明 :

ta-C deposition rate diagram with different bias pressure

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重点项目名称 : 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题2(1)
项目所属数据集 : 2019YFE0123900-003数据集
材料
委托单位
实验单位
实验方法
实验设备
实验条件
重点项目名称
项目所属数据集
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