国家材料腐蚀与防护科学数据中心
National Materials Corrosion and Protection Scientific Data Center
本文选用的是化学气相沉积工艺技术，利用等离子增强化学气相沉积技术（PECVD）沉积DLC薄膜，使用直流辉光放电分解碳氢气体在W6Mo5Cr4V2合金表面沉积DLC膜的过程中主要气源为CH4和C2H2。
In this paper, chemical vapor deposition technology is selected. Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) is used to deposit DLC film, and DC glow discharge is used to decompose hydrocarbon gas and deposit DLC film on the surface of W6Mo5Cr4V2 alloy. The main gas sources are CH4 and C2H2.
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