研究了用高功率脉冲磁控溅射（HiPIMS）在硬质合金表面沉积四面体非晶碳涂层（ta-C）。ta-C涂层的粘附和摩擦性能受到切削工具和耐磨零件领域中使用的沉积参数的显著影响，通常受到指向生长的涂层和结构的沉积能量的影响。结果表明，基于频率和偏置电压调整ta-C涂层的沉积能量可以提高阴极电位降区域的电场强度，从而获得更高能量的电子，这进一步促进了冲击阴极靶的气体离子和发射的二次电子数量的增加，并显著降低了ta-C涂层表面大颗粒的数量和尺寸。在此基础上，C₂H₂掺杂可以有效地提高ta-C涂层的沉积速率、结构、硬度、附着力和耐磨性。当C₂H₂流量为15sccm时，ta-C厚度为872.3nm，sp³键结合率为70.19%，附着力为21.2N，硬度为43.6GPa，摩擦系数可降至0.109，同时涂层表面均匀致密。