国家材料腐蚀与防护科学数据中心
National Materials Corrosion and Protection Scientific Data Center
| 数据类型 | 关键词 | 关键词 | 来源 | 更新时间 |
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| 分析测试报告 | 45sccm 流量C2H2ta-C薄膜的C1s分峰拟合图 | XPS,45 sccmC2H2,C1s | 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题2(2) | 2024-02-22 |
| 分析测试报告 | 0%含量Si的ta-C薄膜的C1s分峰拟合图 | XPS,0% Si,C1s | 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题2(2) | 2024-02-22 |
| 分析测试报告 | 3%含量Si的ta-C薄膜的C1s分峰拟合图 | XPS,3% Si,C1s | 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题2(2) | 2024-02-22 |
| 分析测试报告 | 0%含量Ti的ta-C薄膜的C1s分峰拟合图 | XPS,0% Ti,C1s | 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题2(2) | 2024-02-22 |
| 分析测试报告 | 2%含量Ti的ta-C薄膜的C1s分峰拟合图 | XPS,2% Ti,C1s | 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题2(2) | 2024-02-22 |
| 分析测试报告 | ta-c沉积测试 | First coating test production data of ta-c coating | 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题2(1) | 2024-02-28 |
| 分析测试报告 | 频率4000Hz的ta-C划痕数据图数据图-C沉积速率图 | nanoscratch，4000Hz | 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题2(1) | 2024-02-22 |
| 分析测试报告 | 偏压-150V的ta-C划痕数据图数据图-C沉积速率图 | nanoscratch，-150V | 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题2(1) | 2024-02-22 |
| 分析测试报告 | 偏压-50V的ta-C划痕数据图数据图-C沉积速率图 | nanoscratch，-50V | 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题2(1) | 2024-02-22 |
| 分析测试报告 | 不同频率的ta-C沉积速率图 | Deposition rate，frequency | 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题2(1) | 2024-02-22 |