分析测试报告 |
频率1500Hz的ta-C薄膜的C1s分峰拟合图 |
1500Hz,xps,C1s |
新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题2(1) |
2024-02-22 |
分析测试报告 |
不同偏压的ta-C薄膜拉曼光谱及高斯拟合 |
laman,bias |
新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题2(1) |
2024-02-22 |
分析测试报告 |
不同偏压的ta-C沉积速率图 |
Deposition rate,bias |
新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题2(1) |
2024-02-22 |
分析测试报告 |
不同频率的ta-C沉积速率图 |
Deposition rate,frequency |
新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题2(1) |
2024-02-22 |
分析测试报告 |
偏压-150V的ta-C划痕数据图数据图-C沉积速率图 |
nanoscratch,-150V |
新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题2(1) |
2024-02-22 |
分析测试报告 |
频率1500Hz的ta-C划痕数据图数据图-C沉积速率图 |
nanoscratch,1500Hz |
新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题2(1) |
2024-02-22 |
分析测试报告 |
05 薄膜性能物理测试 |
05 Physical test of film properties |
新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(2) |
2024-02-28 |
分析测试报告 |
4-13 不同掺氮量制备的DLC薄膜的C1S 10%掺氮 |
XPS DLC C1S |
新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(2) |
2024-02-28 |
分析测试报告 |
PECVD厚涂层拉曼光谱 |
Raman spectrum PECVD |
新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(2) |
2024-02-26 |
分析测试报告 |
3-11 W6Mo5Cr4V2 未渗氮处理 |
Raman spectrum W6Mo5Cr4V2 |
新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(2) |
2024-02-26 |