国家材料腐蚀与防护科学数据中心
National Materials Corrosion and Protection Scientific Data Center
| 数据类型 | 关键词 | 关键词 | 来源 | 更新时间 |
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| 分析测试报告 | 4-17 不同掺氮量制备的DLC薄膜的N1S 15%掺氮 | XPS DLC C1S | 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(2) | 2024-02-23 |
| 分析测试报告 | 4-18 不同偏压ta-C薄膜的XPS总谱，-50V | XPS DLC C1S | 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(2) | 2024-02-23 |
| 分析测试报告 | 4-19 不同偏压ta-C薄膜的XPS总谱，-150V | XPS DLC C1S | 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(2) | 2024-02-23 |
| 分析测试报告 | 4-20 不同偏压ta-C薄膜的C1s分峰拟合图，-50V | XPS DLC C1S | 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(2) | 2024-02-23 |
| 分析测试报告 | 4-21 不同偏压ta-C薄膜的C1s分峰拟合图，-150V | XPS DLC C1S | 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(2) | 2024-02-23 |
| 分析测试报告 | 4-22 不同频率ta-C薄膜的C1s ，4000Hz | XPS DLC C1S | 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(2) | 2024-02-23 |
| 分析测试报告 | 4-23 不同频率ta-C薄膜的C1s 1500Hz | XPS DLC C1S | 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(2) | 2024-02-23 |
| 分析测试报告 | 4-24 ta-C薄膜的C1s 0sccm C2H2 | XPS DLC C1S | 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(2) | 2024-02-23 |
| 分析测试报告 | 4-25 ta-C薄膜的C1s 5sccm C2H2 | XPS DLC C1S | 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(2) | 2024-02-23 |
| 分析测试报告 | 4-26 a-C 145sccm C2H2 (2) | XPS DLC C1S | 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(2) | 2024-02-23 |