国家材料腐蚀与防护科学数据中心
National Materials Corrosion and Protection Scientific Data Center
| 数据类型 | 关键词 | 关键词 | 来源 | 更新时间 |
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| 分析测试报告 | 4-26 a-C 145sccm C2H2 (2) | XPS DLC C1S | 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(2) | 2024-02-23 |
| 分析测试报告 | 4-27 不同硅含量ta-C，0%Si | XPS DLC C1S | 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(2) | 2024-02-23 |
| 分析测试报告 | 4-28 不同硅含量ta-C薄膜的C1s分峰拟合图，3%Si | XPS DLC C1S | 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(2) | 2024-02-23 |
| 分析测试报告 | 4-29 不同钛含量ta-C薄膜的C1s分峰拟合图，0%Ti | XPS DLC C1S | 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(2) | 2024-02-23 |
| 分析测试报告 | PECVD厚涂层形貌研究 | SEM PECVD | 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(2) | 2024-02-22 |
| 分析测试报告 | 拉曼光谱及高斯拟合图，CH4C2H2=31 | Raman spectrum PECVD CH4C2H2=31 | 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(2) | 2024-02-22 |
| 分析测试报告 | PECVD 拉曼光谱分析 | Raman spectrum | 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(2) | 2024-02-22 |
| 分析测试报告 | 3-4不同乙炔含量DLC膜的拉曼光谱及高斯拟合图， C2H2 | Raman spectrum PECVD C2H2 | 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(2) | 2024-02-22 |
| 分析测试报告 | 3-5 不同乙炔含量DLC膜的拉曼光谱及高斯拟合图， CH4 | Raman spectrum PECVD CH4 | 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(2) | 2024-02-22 |
| 分析测试报告 | 3-6 不同掺氮量的DLC薄膜的拉曼光谱 | Raman spectrum PECVD | 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(2) | 2024-02-22 |