国家材料腐蚀与防护科学数据中心
National Materials Corrosion and Protection Scientific Data Center
| 数据类型 | 关键词 | 关键词 | 来源 | 更新时间 |
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| 分析测试报告 | 4-4不同渗氮时间的渗氮层厚度 | 4-4 Thickness of nitriding layer at different nitriding times | 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(1) | 2024-02-26 |
| 分析测试报告 | 4-5 不同渗氮层厚度的显微硬度 | 4-5 Microhardness of different nitriding thickness | 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(1) | 2024-02-26 |
| 分析测试报告 | 2H-不同C靶功率沉积Cr-DLC | 2H- Deposition of Cr-DLC with different C-target power | 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(1) | 2024-02-23 |
| 分析测试报告 | 150℃不同Cr靶功率沉积DLC过渡层CrN-Cr | DLC transition layer CrN-Cr was deposited at different Cr target powers at 150℃ | 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(1) | 2024-02-23 |
| 分析测试报告 | 180℃Ti DLC 3h | 180℃Ti DLC 3h | 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(1) | 2024-02-23 |
| 分析测试报告 | 300℃不同Cr靶功率沉积DLC过渡层CrN-Cr | DLC transition layer CrN-Cr was deposited at different Cr target powers at 150℃ | 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(1) | 2024-02-23 |
| 分析测试报告 | 350℃不同Cr靶功率沉积DLC过渡层CrN-Cr | DLC transition layer CrN-Cr was deposited at different Cr target powers at 350℃ | 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(1) | 2024-02-23 |
| 分析测试报告 | 1500Hz沉积Cr-DLC 4h | Deposition of Cr-DLC at 1500Hz for 4h | 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(1) | 2024-02-23 |
| 分析测试报告 | 3000Hz沉积Cr-DLC 4h | Deposition of Cr-DLC at 3000Hz for 4h | 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(1) | 2024-02-23 |
| 分析测试报告 | 3200Hz沉积CrN 4h | CrN was deposited at 3200Hz for 4h | 新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(1) | 2024-02-23 |