分析测试报告 |
不同沉积时间AlTiN |
DLC transition layer CrN-Cr was deposited at different Cr target powers at 150℃ |
新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(1) |
2024-02-23 |
分析测试报告 |
不同偏压沉积过渡层TiN沉积 |
TiN deposition at different bias pressures |
新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(1) |
2024-02-23 |
分析测试报告 |
不同气流量沉积Cr-DLC 3h |
Cr-DLC 3h was deposited at different gas flow rates |
新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(1) |
2024-02-23 |
分析测试报告 |
2H-不同C靶功率沉积Cr-DLC |
2H- Deposition of Cr-DLC with different C-target power |
新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(1) |
2024-02-23 |
分析测试报告 |
150℃不同Cr靶功率沉积DLC过渡层CrN-Cr |
DLC transition layer CrN-Cr was deposited at different Cr target powers at 150℃ |
新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(1) |
2024-02-23 |
分析测试报告 |
Cr-DLC 最佳工艺 |
Best process for Cr-DLC |
新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(1) |
2024-02-23 |
分析测试报告 |
CrN-Cr最佳工艺 |
CrN-Cr best process |
新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(1) |
2024-02-23 |
分析测试报告 |
不同Al靶功率沉积AlCrN过渡层 |
AlCrN transition layers are deposited at different Al target powers |
新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(1) |
2024-02-23 |
分析测试报告 |
不同C靶功率沉积Cr-DLC 4h |
Cr-DLC was deposited for 4h at different C-target powers |
新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(1) |
2024-02-23 |
分析测试报告 |
不同沉积时间沉积过渡层TiCN |
The transitional layer TiCN was deposited at different deposition times |
新型带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术开发高硬度无氢四面体非晶碳涂层-课题1(1) |
2024-02-23 |